Otimização do processo de deposição de coberturas de Ti em aço inoxidável biomédico

Resumo

A importância deste trabalho foi avaliar a deposição de filmes finos de titânio (Ti) utilizando o processo de pulverização catódica (sputtering) sobre placas de aço inoxidável 316L, analisando a influência das variáveis do processo sputtering, taxa de deposição e tempo de deposição, na espessura da camada depositada, utilizando planejamento fatorial 22 + 3 no ponto central, totalizando 7 experimentos. Observou-se que para aumentar espessura da camada depositada de Ti foi necessário realizar experimentos com taxa de deposição e tempos maiores, e que para diminuir a espessura da camada depositada, é necessário realizar experimentos com taxa de deposição e tempos menores.